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2026年7月27日

中國據報開始生產自主研發DUV晶片製造設備

科技媒體The Information報道,中國已開始生產自主研發的深紫外光(DUV)光刻機,這種關鍵晶片製造設備長期以來一直由荷蘭供應商ASML主導。

據報,初期產量將受到限制,今年約生產5部DUV光刻機,明年則增至約20台。這些設備預計將於今年交付給中國領先的晶片製造商,包括中芯國際(00981)、華虹半導體(688347.SS)和長鑫存儲。

這一突破最終可能挑戰ASML在中國市場的主導地位,但該系統在性能和可靠性方面仍存在差距,在實現量產前還需要進一步測試,因此目前這家荷蘭公司的優勢依然穩固。

據悉,中國也在研發國產極紫外光(EUV)光刻機,但目前仍處於原型機階段。

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